首款替代功率MOSFET的增強型氮化镓場效應晶體管
發布時間:2012-12-25 責任編輯:sherryyu
【導讀】氮化镓目前被推薦為極具潛力的材料,可以應用於廣闊的領域,包括無線電源傳送、射頻直流-直流波峰追蹤及高能量脈衝激光等應用。近日,宜普電源轉換公司(EPC)為首家公司推出替代功率MOSFET的矽基、增強型氮化镓場效應晶體管(eGaN FET)。
在過去幾年間有很多關於氮化镓(GaN)半導體器件的報導,如美國Rensselaer Polytechnic Institute的科學家聲稱開發了全球第一種氮化镓MOSFET器件,嚐試利用具備更高擊穿電壓及更高效電源轉換性能的氮化镓器晶體管來替代矽MOSFET器件,其目標是開發出可以在嚴峻環境下工作並具備更高效性能的電子器件。
宜普電源轉換公司(EPC)為首家公司推出替代功率MOSFET的矽基、增強型氮化镓場效應晶體管(eGaN FET)。根據Yole Development公司2011年的研究報告預測,氮化镓器件的全球市場份額在2011年至2015年間的年同比增長率為250%,而碳化矽器件在同期的年同比增長率則隻有35%。
宜普公司的創辦人及首席執行長Alex Lidow博士在台大於上月舉行的第一屆「新世代高功率氮化镓半導體器件及綠能應用國際論壇」中,與超過100位與會者分享氮化镓場效應晶體管的應用趨勢、其突破性技術及所帶來的重大機遇。
Lidow博士中肯地分析,Yole Developmentsuoyucezhiguanyudanhuajiaqijiandeshichangzengchanglvdeyanjiubaogaoguoyuleguan,yinweimuqianduogehuanqiuyinsu,biruouzhoujinrongweijijidalufangmanledejingjifazhanbufa,doukeyijianmandanhuajiaqijiandepujisudu。ciwai,kehujiarucaiyongdanhuajiaxingliedebufa——利用氮化镓器件的優勢來設計其專有產品——也是一個可以影響氮化镓器件普及速度的因素。
Lidow博士認為,在1980年代從雙極性晶體管的技術傳承至采用功率MOSFET器件,我們可以認識到推動氮化镓技術的普及因素主要有四個:1.氮化镓器件必需容易使用;2.開發不能受惠於性能受限的矽器件的全新應用;3.氮化镓器件必需具備成本效益的優勢;以及4.氮化镓器件必需可靠。
yutaidatuanduiyiqichoubeishicishoujieguojiluntandetaidachenyaomingjiaoshourenwei,youyugaogonglvdanhuajiabandaotiqijiandewenshi,dianlidianzijishudekaifayuyingyongjianghuiyoulingyibotupoxingdefazhan。
除此以外,Lidow博bo士shi認ren為wei,業ye界jie的de開kai發fa者zhe的de貢gong獻xian也ye是shi推tui動dong氮dan化hua镓jia器qi件jian普pu及ji化hua的de一yi個ge關guan鍵jian因yin素su。有you多duo個ge競jing爭zheng對dui手shou目mu前qian在zai提ti高gao客ke戶hu對dui氮dan化hua镓jia技ji術shu的de研yan發fa興xing趣qu,這zhe是shi可ke以yi減jian低di客ke戶hu對dui作zuo為wei早zao期qi采cai納na新xin技ji術shu者zhe的de感gan知zhi風feng險xian。Lidow博士稱這些對手為“合作者”,可共同推動氮化镓技術的普及化。
當撰寫本文時,Fijitsu半導體公司正支持Lidow的見解,該公司剛於上月宣布推出采用矽基氮化镓功率器件並具備高輸出功率(2.5 kW)的服務器電源器件。這些器件最大的貢獻旨在為透過提高電源轉換效率來實現低碳社會。
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