新聞事件：

• 會議將在日本東京工業大學舉行

行業影響：

• 此次的國際會議上第一線的研究人員將齊聚一堂
• 這是一次了解透明非結晶氧化物半導體現狀的絕好機會

透明非結晶氧化物半導體及其顯示器應用國際會議“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors（TAOS 2010）”將於1月25～26日在日本東京工業大學的SUZUKAKEDAI校區舉行。夏普、佳能、日立製作所、NEC、大日本印刷
、凸版印刷
、美國惠普（HP）
、韓國三星電子（Samsung Electronics）


、韓國LG顯示器（LG Display）以及台灣友達光電（AUO）等代表日本
、美國
、韓國和台灣的企業一線研究人員將發表特邀演講。

透明非結晶氧化物半導體作為驅動“新一代FPD”的TFT材料備受期待。這是因為透明非結晶氧化物半導體蘊含著使基於Si TFT的現行麵板實現高精細和高速化，並且能夠開拓類似柔性顯示器等新應用的可能性。但對於必須以高成品率來大量製造產品的FPD廠(chang)商(shang)來(lai)說(shuo)
，代(dai)替(ti)此(ci)前(qian)用(yong)慣(guan)了(le)的(de)材(cai)料(liao)轉(zhuan)而(er)采(cai)用(yong)新(xin)材(cai)料(liao)存(cun)在(zai)風(feng)險(xian)。麵(mian)向(xiang)實(shi)用(yong)化(hua)需(xu)要(yao)探(tan)討(tao)的(de)課(ke)題(ti)還(hai)很(hen)多(duo)。克(ke)服(fu)這(zhe)些(xie)課(ke)題(ti)需(xu)要(yao)材(cai)料(liao)廠(chang)商(shang)和(he)裝(zhuang)置(zhi)廠(chang)商(shang)之(zhi)間(jian)的(de)配(pei)合(he)，麵(mian)向(xiang)實(shi)用(yong)化(hua)建(jian)立(li)夥(huo)伴(ban)關(guan)係(xi)也(ye)不(bu)可(ke)或(huo)缺(que)。

在這種情況下
，此次的國際會議上第一線的研究人員將齊聚一堂。2004年使透明非結晶氧化物半導體的性能提高了一位數
、給該領域帶來光明的東京工業大學教授細野秀雄表示：“如此之多的企業和研究人員齊聚一堂還是首次。這是一次了解透明非結晶氧化物半導體現狀的絕好機會。”

目前已經決定由全球最大的FPD廠商韓國三星電子的高級顧問（前任副總裁）昔俊亨（Jun H.Souk）發表主題演講。除了演講外，第8代濺射靶材（Sputtering Target）以及通過透明非結晶氧化物半導體IGZO（In
、Ga

、Zn
、O）TFT驅動的液晶麵板也將展出。