GaN基電源性能的簡易測試技術
發布時間:2020-11-03 責任編輯:wenwei
【導讀】今天,大多數電源路線圖都將GaN晶體管作為一個關鍵平台集成到其中。與Si-mosfet、igbt和SiC-mosfet相比,GaN晶體管的優點意味著工程師們正在將它們廣泛地設計到他們的係統中。然而,GaN晶體管在開關電源中的這些進步也使得表征這些電源的性能變得越來越具有挑戰性。在半橋上測量高邊VGS是診斷晶體管交叉導通的一種傳統方法,對於基於GaN的設計來說是一項艱巨的任務。典型的解決方案是使用高成本的測量設備,這並不總是產生有用的結果。本文介紹了一種利用GaN晶體管的獨特特性測量交叉導通的簡單而經濟的方法。
在升壓或降壓變換器和雙向變換器中用於同步整流的半橋和全橋配置為高、低壓側晶體管使用互補驅動信號。驅動信號必須在半橋中的一個晶體管關閉和另一個晶體管打開之間包含少量的“死區時間”,以(yi)確(que)保(bao)晶(jing)體(ti)管(guan)不(bu)會(hui)交(jiao)叉(cha)導(dao)電(dian)。當(dang)半(ban)橋(qiao)結(jie)構(gou)中(zhong)的(de)晶(jing)體(ti)管(guan)同(tong)時(shi)打(da)開(kai)時(shi),會(hui)發(fa)生(sheng)交(jiao)叉(cha)傳(chuan)導(dao),這(zhe)種(zhong)情(qing)況(kuang)會(hui)增(zeng)加(jia)損(sun)耗(hao),並(bing)可(ke)能(neng)損(sun)壞(huai)晶(jing)體(ti)管(guan)。增(zeng)加(jia)死(si)區(qu)時(shi)間(jian)有(you)助(zhu)於(yu)保(bao)護(hu)晶(jing)體(ti)管(guan),但(dan)也(ye)會(hui)產(chan)生(sheng)另(ling)一(yi)種(zhong)類(lei)型(xing)的(de)損(sun)耗(hao),這(zhe)種(zhong)損(sun)耗(hao)會(hui)在(zai)兩(liang)個(ge)晶(jing)體(ti)管(guan)都(dou)關(guan)閉(bi)時(shi)發(fa)生(sheng),從(cong)而(er)降(jiang)低(di)電(dian)橋(qiao)的(de)效(xiao)率(lv)並(bing)降(jiang)低(di)功(gong)率(lv)轉(zhuan)換(huan)器(qi)的(de)可(ke)用(yong)占(zhan)空(kong)比(bi)範(fan)圍(wei)。因(yin)此(ci),在(zai)確(que)保(bao)不(bu)發(fa)生(sheng)交(jiao)叉(cha)傳(chuan)導(dao)的(de)情(qing)況(kuang)下(xia),盡(jin)量(liang)減(jian)少(shao)橋(qiao)的(de)停(ting)滯(zhi)時(shi)間(jian)是(shi)一(yi)個(ge)關(guan)鍵(jian)的(de)設(she)計(ji)目(mu)標(biao)。驗(yan)證(zheng)此(ci)操(cao)作(zuo)是(shi)一(yi)個(ge)挑(tiao)戰(zhan)。
驗yan證zheng電dian源yuan半ban橋qiao拓tuo撲pu是shi否fou正zheng確que交jiao叉cha導dao通tong的de常chang用yong方fang法fa是shi使shi用yong兩liang個ge探tan針zhen同tong時shi驗yan證zheng高gao壓ya側ce和he低di壓ya側ce驅qu動dong信xin號hao之zhi間jian的de死si區qu時shi間jian。測ce量liang氮dan化hua镓jia晶jing體ti管guan驅qu動dong信xin號hao,特te別bie是shi高gao邊bian柵zha,是shi一yi項xiang具ju有you挑tiao戰zhan性xing的de工gong作zuo,經jing常chang導dao致zhi誤wu觸chu發fa,使shi設she計ji工gong程cheng師shi感gan到dao沮ju喪sang。
GaN器件的柵極信號具有很高的轉換速率,約為1V/ns,這給使用傳統的隔離探針進行高邊測量帶來了挑戰。如果測量係統沒有足夠的共模抑製比(CMRR),zegaoyaceyuanjiediangongmodianyadekuaisubianhuahuichanshengganrao,shiceliangbiandemohu。lingwai,chuantongdewuyuandianyatanzhenyinrudejishengdianronghuishizhajiqudongxinhaoshizhen,congerdaozhijiaochachuandao。
光學隔離測量係統,如Tektronix TIVH係列IsoVu,已開發出直流共模抑製比大於160分貝,以提供可實現的高壓側VGS測量解決方案。此類測量係統還必須最小化傳感回路麵積,並提供增強的屏蔽測量信號路徑。為此,配備了微型電容轉換器(cx)專用電路板,以提供所需功率的微型接口。圖1顯示了使用GS66516T GAN晶體管的高側VGS測量結果和雙脈衝測試板。TIVH係列IsoVu和MMCX連接器用於實現這一點,如圖2所示。

圖1左邊的圖表顯示了使用Tektronix IsoVu測量係統在ILoad=23A下測量的不同Rgon的高壓側VG。右側顯示GS66516T雙脈衝測試(DPT)板。

帶MMCX連接器的PCB板(右)。
測量係統的成本以及信號路徑的額外複雜性和靈敏度為更具成本效益和更不敏感的解決方案留下了空間。GaN係統工程師開發的一種方法隻測量低端晶體管,解決了這些問題。
GaN半橋的典型硬開關開通過渡示意圖如圖3所示,代表性的低壓側ID曲線如圖4所示。在電壓換向期間(圖3d),S1上的電壓增加,S2上的電壓降低。相應地,晶體管漏極至源電容器C1和C2將分別充電和放電。由於S2的二維電子氣(2DEG)通道導通,而S1的2DEG通道被關閉,C1的充電電流流過S2,導致電流突增。

圖3這些硬開關轉換圖顯示了S1導電(a)、死區時間(b)、電流換向(c)、電壓換向(d)和S2導電(e)。
由於GaN晶體管不像Si和SiC mosfet,沒有固有的體二極管,因此在電壓換向期間沒有反向恢複損耗(圖4中的t1~t2)。低側漏極電流的緩衝區是來自相反開關S1的電容(COSS=CGD+CDS)充電電流IQ(OSS)的結果。

圖4這是低邊GaN晶體管的硬開關開啟過程。
如果發生交叉傳導,電流的碰撞麵積將大於COSS的預期值。交叉傳導可以在電壓換向期間、之後、期間和之後同時發生(圖5)。

圖5在電壓換向期間、之後或兩者同時發生交叉傳導。
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