在半導體開關中使用共源共柵拓撲消除米勒效應
發布時間:2022-03-05 責任編輯:wenwei
【導讀】物wu理li法fa則ze無wu法fa擊ji敗bai。電dian阻zu必bi然ran消xiao耗hao電dian能neng,並bing產chan生sheng熱re量liang和he壓ya降jiang。電dian容rong器qi要yao消xiao耗hao時shi間jian存cun儲chu電dian荷he,再zai花hua時shi間jian釋shi放fang電dian荷he。電dian感gan器qi要yao花hua時shi間jian製zhi造zao電dian磁ci場chang並bing讓rang其qi坍tan塌ta。我wo們men對dui此ci無wu能neng為wei力li,因yin此ci,自zi熱re離li子zi管guan誕dan生sheng之zhi日ri起qi,電dian子zi產chan品pin設she計ji師shi就jiu學xue會hui了le通tong過guo開kai發fa巧qiao妙miao的de電dian路lu拓tuo撲pu來lai解jie決jue這zhe些xie因yin素su。事shi實shi表biao明ming,物wu理li就jiu是shi物wu理li,過guo去qu對dui管guan適shi用yong的de規gui則ze也ye同tong樣yang適shi用yong於yu今jin天tian的de高gao性xing能neng半ban導dao體ti。
米勒電容如何限製高頻放大
以米勒效應為例。在20世紀20年代,美國電子工程師約翰·彌爾頓·米mi勒le發fa現xian簡jian單dan的de真zhen空kong三san極ji管guan當dang作zuo為wei放fang大da器qi使shi用yong時shi,由you於yu網wang格ge和he陽yang極ji之zhi間jian存cun在zai內nei部bu電dian容rong,會hui出chu現xian一yi個ge問wen題ti。這zhe個ge電dian容rong通tong過guo在zai電dian容rong的de阻zu抗kang隨sui著zhe不bu斷duan升sheng高gao的de運yun行xing頻pin率lv而er降jiang低di時shi施shi加jia越yue來lai越yue高gao的de負fu反fan饋kui,降jiang低di放fang大da器qi的de帶dai寬kuan。
米勒認識到,如圖1所示將兩個三極管串聯(如級聯型三極管或共源共柵拓撲)kenenghuijiangdicongshurudaoshuchudezongdianrong。jianyushangguanpaidianyaguding,shangsanjiguandeyinjidianyatongguoxiasanjiguankongzhi。dangkaifachudaiyouneibulianzhadesijiguanhou,zhezhongneibudianrongjiqixiangguanxiaoyinghuijiangdi,congerkeyigoujiankeyizaishubaizhaohexiayunxingdedanguanfangdaqi。
【圖1:原始的聯級三極管或共源共柵電路】
米勒效應的回歸
隨著設計師開始用固態半導體代替熱離子管,米勒效應也回歸了,而這又一次開始限製高頻運行。
為什麼會這樣?在基於MOSFET的開關電路中,米勒效應限製了開關速度,因為驅動電路必須以一種低損耗的可靠方式為輸入電容充電和放電。這種米勒電容(即CGD)的效應會因柵極電壓而異。
例如,考慮增強模式的MOSFET開關,它在柵極電壓為0V時關閉。總的柵極輸入電容表現為一個網絡(請參見圖2),包括CGS、CGD、CDS、負載ZL和散裝電容CBULK。CGD兩端還有正電壓。當MOSFET打開時,漏電壓降至接近零,總電容變成與CGS並聯的CGD,且與關態相比跨CGD有負電壓。在從開到關再從關到開的開關過程中,輸入電容必須在這些條件之間交換。
【圖2:關閉和打開時的MOSFET輸入電容相同】
MOSFET柵極開關波形正向部分的平台期(參見圖3)代表兩個輸入電容狀態間的轉換,因為驅動器突然必須努力工作,從而使開關轉換變慢。為了加劇效應,如漏極壓降,它會嚐試“推動”柵極負壓經過CGD,與正的開態電壓命令相抗。當驅動MOSFET關閉時,此過程會反過來。CGD會嚐試“拉動”柵極正壓,這就是為什麼鼓勵處理MOSFET和IGBT的設計師使用負的關態柵極電壓抵消這種效應。這會轉而提高驅動柵極所需的功率。
【圖3:柵極驅動電壓的米勒電容“平台”】
控製柵漏電容
器件的柵漏電容CGD會受到半導體器件的體係結構的影響,因此會因橫向或縱向構建而異。可以盡量降低CGD以獲得低壓MOSFET,但是在高壓下它可以變成一個問題,尤其是當設計師想要使用碳化矽(SiC)或氮化镓(GaN)等材料構建寬帶隙器件時。有些物理規律是無法規避的:這些技術的開關速度仍受其米勒電容的限製,對抗米勒效應的最佳方式是使用共源共柵電路拓撲。
現代化的共源共柵
基本的SiC開關使用結FET(JFET)結構。如果JFET是作為垂直器件構建的,其CGD可能達到有利的低點,而其漏源電容CDS還可以更低。但是,JFET是常開型器件,其柵極為0V,需(xu)要(yao)負(fu)的(de)柵(zha)極(ji)電(dian)壓(ya)才(cai)能(neng)關(guan)閉(bi)。這(zhe)是(shi)橋(qiao)電(dian)路(lu)中(zhong)的(de)問(wen)題(ti),在(zai)該(gai)電(dian)路(lu)中(zhong),所(suo)有(you)器(qi)件(jian)默(mo)認(ren)為(wei)開(kai)態(tai),適(shi)用(yong)瞬(shun)時(shi)功(gong)率(lv)。使(shi)用(yong)常(chang)關(guan)型(xing)器(qi)件(jian)構(gou)建(jian)此(ci)類(lei)電(dian)路(lu)會(hui)更(geng)好(hao),該(gai)器(qi)件(jian)可(ke)以(yi)通(tong)過(guo)布(bu)置(zhi)共(gong)源(yuan)共(gong)柵(zha)拓(tuo)撲(pu)結(jie)構(gou)的(de)Si MOSFET和SiC JFET(圖4)來實現。
【圖4:矽/碳化矽共源共柵】
當MOSFET柵極和源極電壓為0V時,漏極電壓升高。JFET柵極也為0V,因此當源極電壓從MOSFET漏極電壓升高到10 V時,JFET會見證柵極和源極之間出現-10 V電壓,因此開關關閉。當MOSFET柵極電壓為正時,它會打開,因此讓JFET的柵極和源極短接,從而打開JFET。這個電路拓撲會創建所需的常關型器件,MOSFET柵極電壓為0V。該拓撲還意味著串聯的輸入輸出電容包括CDS,以實現JFET,它的值接近於零,從而降低了米勒效應,以及它對高頻增益的影響。
其他優勢
在開關時,Si MOSFET漏極電壓是JFET漏極電壓經過幾乎為零的JFET漏源電容CDS和MOSFET的非零CDS“傾瀉而下”,因此MOSFET漏極保持低壓。這意味著,MOSFET可以是低壓類型,且漏極和源極之間維持非常低的導通電阻,且柵極驅動更加容易。還有一個優勢,那就是低壓MOSFET的體二極管的前向壓降非常低,且恢複速度快。JFET沒有體二極管,因此當需要第三象限反向開關導電時,如在換流橋電路或同步整流中,MOSFET體二極管會導電。這會將JFET柵源限製到約+0.6 V,從而確保它在最大程度上打開,這可實現反向電流和低壓降。
米勒效應的終結
SiC共源共柵拓撲解決了米勒電容問題,且同時實現了簡單的柵極驅動、常關運行和高性能體二極管。這與SiC MOSFET不同,在SiC MOSFET中,體二極管特征差,甚至與GaN HEMT也不同,後者有高CDS。物wu理li特te征zheng的de不bu變bian性xing導dao致zhi熱re離li子zi器qi件jian中zhong產chan生sheng限xian製zhi高gao頻pin增zeng益yi的de米mi勒le效xiao應ying,這zhe也ye適shi用yong於yu半ban導dao體ti器qi件jian。不bu過guo,這zhe種zhong不bu變bian性xing也ye意yi味wei著zhe基ji於yu共gong源yuan共gong柵zha的de問wen題ti解jie決jue方fang案an在zai現xian代dai化hua的deSiC器件中與在老式管中同樣適用。似乎改變越多,不變的也越多。
來源: UnitedSiC
免責聲明:本文為轉載文章,轉載此文目的在於傳遞更多信息,版權歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權問題,請聯係小編進行處理。
推薦閱讀:
- 噪聲中提取真值!瑞盟科技推出MSA2240電流檢測芯片賦能多元高端測量場景
- 10MHz高頻運行!氮矽科技發布集成驅動GaN芯片,助力電源能效再攀新高
- 失真度僅0.002%!力芯微推出超低內阻、超低失真4PST模擬開關
- 一“芯”雙電!聖邦微電子發布雙輸出電源芯片,簡化AFE與音頻設計
- 一機適配萬端:金升陽推出1200W可編程電源,賦能高端裝備製造
- 一秒檢測,成本降至萬分之一,光引科技把幾十萬的台式光譜儀“搬”到了手腕上
- AI服務器電源機櫃Power Rack HVDC MW級測試方案
- 突破工藝邊界,奎芯科技LPDDR5X IP矽驗證通過,速率達9600Mbps
- 通過直接、準確、自動測量超低範圍的氯殘留來推動反滲透膜保護
- 從技術研發到規模量產:恩智浦第三代成像雷達平台,賦能下一代自動駕駛!
- 車規與基於V2X的車輛協同主動避撞技術展望
- 數字隔離助力新能源汽車安全隔離的新挑戰
- 汽車模塊拋負載的解決方案
- 車用連接器的安全創新應用
- Melexis Actuators Business Unit
- Position / Current Sensors - Triaxis Hall





