本發明涉及集成電路製造領域
，特別涉及一種多個傳感器間相互位置關係校準方法。

 

 

投影掃描式(TFT)光刻機的目的是把掩模上圖形清晰、正確地成像在塗有光刻膠的基板上，隨著基板尺寸的增大
，掩模、基板的形變會對套刻結果產生很大的影響，因此必須在掩模或基板上布置更多的標記。

 

為了提高產率，現提出一種曝光裝置，該裝置包括：照明係統1
，掩模2
、掩模台3、基板對準係統4、物鏡陣列5、曝光場6、基板7以及工件台8。該光刻機係統工作時，照明係統1通過物鏡陣列5將掩模2上的圖像成像到基板7的每個曝光場6上，通過工件台8與掩模台3同步運動完成掃描曝光動作。掩模台3承載掩模2運動、工件台8承載基板7運動，工件台測量係統和掩模台測量係統分別測量工件台8和掩模台3的位置。為了完成物鏡陣列5的鏡頭拚接，需要采用多個掩模對準傳感器同時執行掩模對準的方案。然而，由於掩模對準傳感器
、基板對準傳感器相對於工件台8或者整機框架會發生熱漂移

，如果再運用原先的傳感器位置關係計算掩模2相對於工件台8、基板7相對於工件台8的位置關係會引起套刻誤差。

 

因此，如何對多個傳感器間的位置關係進行校準，成為本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

 

 

本發明提供一種多個傳感器間相互位置關係校準方法，以解決傳感器間相互位置漂移問題，從而消除該漂移對套刻的影響。

 

weijiejueshangshujishuwenti，benfamingtigongyizhongduogechuanganqijianxianghuweizhiguanxixiaozhunfangfa，tongguoyanmoduizhunchuanganqihejibanduizhunchuanganqiceliangshezhizaigongjiantaijizhunbanshangdejizhunbiaoji，jianliyanmoduizhunchuanganqiyujibanduizhunchuanganqizhijiandeweizhiguanxi。

 

圖為掩模與基板位置關係的邏輯聯係圖

 

具體包括：步驟1：采用掩模對準傳感器對工件台基準版上的基準標記進行位置測量；步驟2：通過該基準標記上的第一標記對掩模對準傳感器進行位置標定；步驟3：通過該對準標記上的第二標記對基板對準傳感器進行位置標定。

 

作為優選
，標定包括離線標定和在線標定。所述離線標定步驟包括：采用幹涉儀分別對每個掩模對準傳感器和每個基板對準傳感器進行位置標定，建立掩模對準傳感器、基板對準傳感器與幹涉儀之間的關係
；移動工件台
，采用一個基板對準傳感器依次對準工件台基準版上的基準標記，並標定每個基準標記相對於工件台的位置；使第一標記同時對準所有基板對準傳感器
，從而標定所有基板對準傳感器的位置。

 

所述在線標定步驟包括離軸基線更新和同軸基線更新。所述離軸基線更新包括：將(jiang)所(suo)有(you)基(ji)板(ban)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)同(tong)時(shi)對(dui)準(zhun)第(di)一(yi)標(biao)記(ji)
，測(ce)得(de)的(de)工(gong)件(jian)台(tai)基(ji)準(zhun)版(ban)的(de)位(wei)置(zhi)變(bian)化(hua)，並(bing)把(ba)在(zai)線(xian)測(ce)得(de)的(de)工(gong)件(jian)台(tai)基(ji)準(zhun)版(ban)的(de)位(wei)置(zhi)變(bian)化(hua)補(bu)償(chang)到(dao)所(suo)述(shu)基(ji)板(ban)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)上(shang)。所(suo)述(shu)同(tong)軸(zhou)基(ji)線(xian)更(geng)新(xin)包(bao)括(kuo)：移(yi)動(dong)掩(yan)模(mo)台(tai)和(he)工(gong)件(jian)台(tai)到(dao)物(wu)鏡(jing)陣(zhen)列(lie)下(xia)
，所(suo)有(you)掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)測(ce)量(liang)其(qi)各(ge)自(zi)對(dui)應(ying)的(de)第(di)二(er)標(biao)記(ji)的(de)像(xiang)素(su)值(zhi)變(bian)化(hua)
，進(jin)而(er)更(geng)新(xin)所(suo)述(shu)基(ji)準(zhun)標(biao)記(ji)的(de)像(xiang)素(su)位(wei)置(zhi)。兩(liang)掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)間(jian)距(ju)與(yu)兩(liang)基(ji)板(ban)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)間(jian)距(ju)相(xiang)同(tong)。所(suo)述(shu)掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)和(he)基(ji)板(ban)對(dui)準(zhun)傳(chuan)感(gan)器(qi)的(de)排(pai)列(lie)方(fang)向(xiang)相(xiang)同(tong)
，均(jun)與(yu)光(guang)刻(ke)機(ji)係(xi)統(tong)的(de)掃(sao)描(miao)方(fang)向(xiang)垂(chui)直(zhi)，可(ke)以(yi)測(ce)出(chu)基(ji)板(ban)內(nei)的(de)高(gao)階(jie)形(xing)變(bian)。所(suo)述(shu)第(di)一(yi)標(biao)記(ji)和(he)第(di)二(er)標(biao)記(ji)部(bu)分(fen)重(zhong)合(he)。

 

與(yu)現(xian)有(you)技(ji)術(shu)相(xiang)比(bi)，本(ben)發(fa)明(ming)通(tong)過(guo)掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)建(jian)立(li)掩(yan)模(mo)與(yu)工(gong)件(jian)台(tai)的(de)位(wei)置(zhi)關(guan)係(xi)

，再(zai)建(jian)立(li)基(ji)板(ban)與(yu)工(gong)件(jian)台(tai)的(de)位(wei)置(zhi)關(guan)係(xi)
，從(cong)而(er)可(ke)以(yi)間(jian)接(jie)建(jian)立(li)掩(yan)模(mo)與(yu)基(ji)板(ban)的(de)位(wei)置(zhi)關(guan)係(xi)，可(ke)以(yi)有(you)效(xiao)解(jie)決(jue)掩(yan)模(mo)、基板傳感器間相互位置漂移問題，從而消除該漂移對套刻的影響。