雙向可控矽設計指要
發布時間:2013-05-28 責任編輯:lynn
【導讀】近幾年,隨著半導體技術的發展,大功率雙向可控矽不斷湧現,並廣泛應用在變流、變頻領域,可控矽應用技術日益成熟。本文主要探討廣泛應用於家電行業的雙向可控矽的設計指要。
雙向可控矽可被認為是一對反並聯連接的普通可控矽的集成,工作原理與普通單向可控矽相同。圖1為雙向可控矽的基本結構及其等效電路,它有兩個主電極T1和T2,一個門極G,門極使器件在主電極的正反兩個方向均可觸發導通,所以雙向可控矽在第1和第3象限有對稱的伏安特性。雙向可控矽門極加正、負 觸發脈衝都能使管子觸發導通,因此有四種觸發方式。

圖1 雙向可控矽結構及等效電路
雙向可控矽應用
為了正常的使用雙向可控矽,需定量掌握其主要參數,對雙向可控矽進行適當的選用並采取相應措施以達到各參數要求。
耐壓級別的選擇:通常把VDRM(斷態重複峰值電壓)和VRRM(反向重複峰值電壓)中較小的值標作該器件的額定電壓。選用時,額定電壓應為正常工作峰值電壓的2~3倍,作為允許的操作過電壓裕量。
電流的確定:youyushuangxiangkekongguitongchangyongzaijiaoliudianluzhong,yincibuyongpingjunzhieryongyouxiaozhilaibiaoshitadeedingdianliuzhi。youyukekongguideguozainenglibiyibandianciqijianxiao,yineryibanjiadianzhongxuanyongkekongguidedianliuzhiweishijigongzuodianliuzhide2~3倍。同時,可控矽承受斷態重複峰值電壓VDRM和反向重複峰值電壓VRRM時的峰值電流應小於器件規定的IDRM和IRRM。
通態(峰值)電壓VTM的選擇:它是可控矽通以規定倍數額定電流時的瞬態峰值壓降。為減少可控矽的熱損耗,應盡可能選擇VTM小的可控矽。
維持電流:IH是維持可控矽維持通態所必需的最小主電流,它與結溫有關,結溫越高,則IH越小。
電壓上升率的抵製:dv/dt指的是在關斷狀態下電壓的上升斜率,這是防止誤觸發的一個關鍵參數。此值超限將可能導致可控矽出現誤導通的現象。 由於可控矽的製造工藝決定了A2與G之間會存在寄生電容,如圖2所示。我們知道dv/dt的變化在電容的兩端會出現等效電流,這個電流就會成為Ig,也就是出現了觸發電流,導致誤觸發。

圖2 雙向可控矽等效示意圖
切換電壓上升率dVCOM/dt。驅(qu)動(dong)高(gao)電(dian)抗(kang)性(xing)的(de)負(fu)載(zai)時(shi),負(fu)載(zai)電(dian)壓(ya)和(he)電(dian)流(liu)的(de)波(bo)形(xing)間(jian)通(tong)常(chang)發(fa)生(sheng)實(shi)質(zhi)性(xing)的(de)相(xiang)位(wei)移(yi)動(dong)。當(dang)負(fu)載(zai)電(dian)流(liu)過(guo)零(ling)時(shi)雙(shuang)向(xiang)可(ke)控(kong)矽(gui)發(fa)生(sheng)切(qie)換(huan),由(you)於(yu)相(xiang)位(wei)差(cha)電(dian)壓(ya)並(bing)不(bu)為(wei)零(ling)。這(zhe)時(shi)雙(shuang)向(xiang)可(ke)控(kong)矽(gui)須(xu)立(li)即(ji)阻(zu)斷(duan)該(gai)電(dian)壓(ya)。產(chan)生(sheng)的(de)切(qie)換(huan)電(dian)壓(ya)上(shang)升(sheng)率(lv)(dVCOM/dt)若超過允許值,會迫使雙向可控矽回複導通狀態,因為載流子沒有充分的時間自結上撤出,如圖3所示。

圖3 切換時的電流及電壓變化
高dVCOM/dt承受能力受二個條件影響:
dICOM/dt—切換時負載電流下降率。dICOM/dt高,則dVCOM/dt承受能力下降。
結麵溫度Tj越高,dVCOM/dt承受能力越下降。假如雙向可控矽的dVCOM/dt的允許值有可能被超過,為避免發生假觸發,可在T1 和T2 間裝置RC緩衝電路,以此限製電壓上升率。通常選47~100Ω的能承受浪湧電流的碳膜電阻,0.01μF~0.47μF的電容,晶閘管關斷過程中主電流過零反向後迅速由反向峰值恢複至零電流,此過程可在元件兩端產生達正常工作峰值電壓5-6倍的尖峰電壓。一般建議盡可能靠近元件本身的地方接上阻容吸收回路。
斷開狀態下電壓變化率dvD/dt。若截止的雙向可控矽上(或門極靈敏的閘流管)作用很高的電壓變化率,盡管不超過VDRM,電容性內部電流能 產生足夠大的門極電流,並觸發器件導通。門極靈敏度隨溫度而升高。假如發生這樣的問題,T1 和T2 間(或陽極和陰極間)應該加上RC緩衝電路,以限製dvD/dt。
電流上升率的抑製
電流上升率的影響主要表現在以下兩個方麵:
①dIT/dt(導通時的電流上升率)—當雙向可控矽或閘流管在門極電流觸發下導通,門極臨近處立即導通,然後迅速擴展至整個有效麵積。這遲後 的時間有一個極限,即負載電流上升率的許可值。過高的dIT/dt可能導致局部燒毀,並使T1-T2 短路。假如過程中限製dIT/dt到一較低的值,雙向可控矽可能可以幸存。因此,假如雙向可控矽的VDRM在嚴重的、異常的電源瞬間過程中有可能被超出或 導通時的dIT/dt有可能被超出,可在負載上串聯一個幾μH的不飽和(空心)電感。
②dICOM/dt (切換電流變化率) —導致高dICOM/dt值的因素是:高負載電流、高電網頻率(假設正弦波電流)或者非正弦波負載電流,它們引起的切換電流變化率超出最大的允許值,使雙 向可控矽甚至不能支持50Hz 波形由零上升時不大的dV/dt,加入一幾mH的電感和負載串聯,可以限製dICOM/dt。
使用雙向可控矽的好處
為了解決高dv/dt及di/dt引起的問題,還可以使用Hi-Com 雙向可控矽,它和傳統的雙向可控矽的內部結構有差別。差別之一是內部的二個“閘流管”分隔得更好,減少了互相的影響。這帶來下列好處:
①高dVCOM/dt。能控製電抗性負載,在很多場合下不需要緩衝電路,保證無故障切換。這降低了元器件數量、底板尺寸和成本,還免去了緩衝電路的功率耗散。
②高dICOM/dt。切換高頻電流或非正弦波電流的性能大為改善,不需要在負載上串聯電感以限製dICOM/dt。
③高dvD/dt(斷開狀態下電壓變化率)。雙向可控矽在高溫下更為靈敏。高溫下,處於截止狀態時,容易因高dV/dt下的假觸發而導通。 Hi-Com雙向可控矽減少了這種傾向。從而可以用在高溫電器,控製電阻性負載,例如廚房和取暖電器,而傳統的雙向可控矽則不能用。
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雙向可控矽結構原理及應用
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